“这个图案有可能是什么组织或者公司的图案，光脑现有的资料也查询不到。”施千亦说道。
黎恩将那张纸翻来覆去看了两眼，又想到一个问题，“如果这里就是我穿越时候看到的垃圾星球的话，那么现在我们还有一个问题，这个星球很大概率没有人类居住，我们得想办法离开。”
星际世界意味着有各种各样先进的科技仪器，并且上一次穿越到星际世界里，黎恩还有很多东西没能带走，心存遗憾。
所以这一次穿越到星际世界，黎恩可不想被困在这个垃圾星球，她还想着出去大肆采购。
但如果这个星球是垃圾星球的话，那也意味着没有什么星际飞船能来往。
黎恩看到的那艘星际飞船有可能就是他们离开这个星球唯一方式。
霍战也想到这个问题，沉着声音说道，“也不知道这个星球距离其他星球有多远，想要离开这里，只能靠星际飞船了。先看看这里有没有可用的飞船，随时关注周围是否有星际飞船经过，看看搭个便车。”
“我刚才一直在想，这里有这么多垃圾，除了一部分被无意吸过来的，大部分应该是有人专门把垃圾倒在这里，所以恩宝看到的那艘星际飞船估计是专门承载运送垃圾的飞船，我们可以通过是否有大量新垃圾出现来判定有没有飞船经过。”施千亦说着比了比垃圾山的高度。
此时的垃圾山比较稳定，并没有太多新垃圾加入，每隔两分钟才会有新垃圾加入，大多数都是一些乱七八糟的太空垃圾。
黎恩点点头赞同施千亦的说法，“我觉得千千说得对，在没有大量新垃圾出现之前，我们也只能先看看这里有没有可以使用的星际飞船。”
她说着转过头看向几乎望不到尽头的垃圾山，“也不知道有没有什么幸运飞船被不幸吸过来。”
“这个可能性比较小，但也不是完全不可能，先找找看。”霍战说着招呼两人开始翻垃圾。
垃圾山里有一大半都是各种各样的废旧仪器跟飞行器等，黎恩还翻到了不少可以使用的产品。
虽然这些产品对于联邦而言是一个已经过时淘汰的产品，但对黎恩三人而言可是一个好东西。
这些垃圾的体积都很大，霍战直接开了个挖掘机来挖垃圾，挖到能用的东西再放到一旁给黎恩辨认。
其实大部分仪器黎恩都不认识，除了有个别功能比较明显的仪器知道以外，大部分仪器只能简单确定还能使用，黎恩便将其直接塞进锦囊中。
管它是什么，能用的都是好东西。
施千亦在空地上布置好求救信号，确定有星际飞船经过能看到他们的信号后才过来帮霍战两人。
她同样开着一台挖掘机不断在垃圾堆里挖，将肉眼辨别出来能用的垃圾挖到黎恩旁边。
黎恩直接盘腿坐在垃圾堆上，用光脑一一扫描辨认，并且尝试着开启机器，看看能不能用。
能用的就把整个仪器收进去，不能用的就拆零件出来。
只要是星际世界里的东西，就算只是个零件都是高级的。
突然，霍战挖过来的一台机器让黎恩有些惊讶。
这台机器想比起其它垃圾而言比较新，从外面来看，整个产品大约有七八成新，除了外壳有几道划痕之外便没有其它痕迹了。
但让黎恩最惊讶的并不是这台机器的新旧，而是这台机器表面的文字。
这台七八成新的仪器表面上标着这台仪器的名称，一纳米光刻机，联邦生产。
黎恩对这个名字可以说十分熟悉了，甚至可以说是刻在她心里的名字，光刻机。
她之前并不知道光刻机是什么，但在各个院士的科普之下便知道了光刻机对于芯片制作跟华国的重要性。
光刻机主要用来制作高级芯片，现在不管是人们使用的手机亦或是什么智能产品，基本上都需要用到芯片。
芯片也是半导体行业的重中之重，如果没有芯片的话，很多产品研发都会受到限制。
就比如黎恩他们带回来的智能机器人，虽然林院士他们已经将智能机器人研究的差不多了，但却缺少高级芯片。
如果没有高级芯片来承载智能机器人的运行，那他们也没办法制造出更加先进的光刻机。
更别说实现智能机器人的量产了。
这也是为什么智能机器人在短时间内还没有办法往外发售的原因，因为就算林院士他们已经研究出来了，也没有办法量产智能机器人。
像之前发布的各种各样智能家居电器已经是目前芯片能承载的最大力度。
并且华国的芯片产业一直受到其他国家的限制，毫不夸张的说，华国的芯片一直被其他国家捏住命运的喉咙。
其中对华国芯片造成最大阻碍的便是霉国。
半导体行业一直被看作是国家产业的核心领域，它在国家安全和经济发展方面都扮演着非常重要的角色。
但是随着华霉贸易战的升级，霉国逐渐将限制半导体进口作为压制华国半导体产业的主要手段之一。
为了限制华国的半导体产业，全球领先的光刻机制造商成为了霉国打压华国的重要工具。
芯片制程只要进入了7纳米的范围，所生产芯片用的晶元仪器就得使用这家公司的euv光刻机。
这种光刻机的制成精度是目前最高的，也能有效的提升高端芯片产品在生产过程中的良率
也只有这种光刻机才能对高端芯片产品进行大规模加工，增大它的产出效率。
但由于华国在这方面的基础底子比较落后，缺乏发展先进的晶片生产先进技术，所以也很难掌握这种光靠技术。
当然，从全球的角度来看，不仅是华国，而是所有国家的先进芯片制成都无法摆脱对euv光刻机的依赖。
而霉国则是通过协议来限制该制造商光刻机出口华国的数量，导致华国国内的企业迟迟没有收到光刻机，进一步实现打压华国半导体产业的目的。
虽然现在国内也在加快进程研究高级的光刻机，但国内现在最新的光刻机技术，其光刻分辨能力达到了22纳米。
结合双重曝光技术之后，未来可以用于制造十纳米级别的芯片。
但这样的技术跟euv光刻机技术相比，还差的有点远。
所以经过各个院士的科普后，黎恩就下定决心，若是能再一次穿越到星际世界，一定要看看有没有更高端的光刻机。
没想到还没等她找呢，光刻机就自动送上门了，还是一纳米光刻机。
要知道现实世界里最厉害的光刻机也只能做到5纳米，所有制造商都没办法实现三纳米芯片的制作，更别说是一纳米了。